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新虫 (初入文坛)


[交流] 【IEEE收录、EI检索】第四届国际先进光刻技术研讨会报名进行中

【IEEE收录、EI检索】第四届国际先进光刻技术研讨会报名进行中
【IEEE收录、EI检索】第四届国际先进光刻技术研讨会报名进行中-1
IEEE Xplore 链接:conferences.ieee.org/conferences_events/conferences/conferencedetails/51164

本届国际先进光刻技术研讨会已被IEEE收录
会议全文将送检IEEE Xplore与EI
~欢迎各位投稿人积极撰写全文~
~全文质量将影响最终收录结果~

IWAPS致力于发表前沿的微电子制造技术研究成果。会议主题涵盖先进半导体制造领域中从早期的理论和实验,到工业化大规模量产的应用等内容。包括但不局限于:

- 光刻
- 极紫外光刻
- 新型技术
- 量测及缺陷检测
- 设计工艺联合优化与可制造性设计
- 材料
- 器件
- 工艺

会议投稿请提交至邮箱:
iwaps_program@ime.ac.cn

会议介绍
近年来,中国集成电路产业蓬勃发展,基于这样的形势,国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions,IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果,探讨图形化解决方案,研讨即将面临的技术挑战。
        IWAPS研讨会专注于高端光刻技术,为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果,探讨图形化解决方案,研讨即将面临的技术挑战。

详情请关注微信公众号:光刻人的世界
【IEEE收录、EI检索】第四届国际先进光刻技术研讨会报名进行中-2
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