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高分子等离子PECVD设备 镀SiO2阻水膜 化学气相沉积系统 金属箔镀膜
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产品介绍： 云普PECVD设备由管式炉系统+真空系统+供气系统+水冷系统组成 ，最高温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计，混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。 管式炉采用掺钼合金加热丝为加热元件，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用日本进口氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、节能等优点。 软件控制系统：该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。 应用范围： 云普PECVD设备是一种特殊的镀膜设备，是专门为在金属箔（像铜箔、铝箔等）上生长薄膜而设计，也可以镀SiO2阻水膜；广泛应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究上，特别适用于碳纳米管、碳纳米线、石墨烯的生长。 销售热线：13608679117 联系人：王经理  001.png  CVD管式炉.png  CVD涂层设备.png  等离子镀膜设备.png  石墨烯生长系统.png |
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6楼2020-06-14 11:57:09
7楼2020-06-14 15:27:39
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lishaokui(金币+1): 谢谢参与
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8楼2020-06-14 17:16:44
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