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1. X 射线光电子能谱仪(XPS)
型号:美国 ThermoFisher K-Alpha、ESCALAB 250Xi
主要规格及技术指标:
1.X射线源-Al Kα微聚集单色器-可获取的光斑大小(5μm步长30-400μm);
2.离子枪-能量范围100-4000Ev;
3.真空度一般是8*10-8,入射角90度;功率72W;分辨率0.4ev;
材料要求:
1.块状和薄膜样品,其长宽最好小于10 mm,高度小于3 mm;
2.粉末样品,不少于10mg;
3.无法测试强磁材料和含氟材料。
主要功能及应用范围:
1.对固体样品的表面元素成分(除氢、氦)进行定性或半定量及价态分析;
2.配合Ar离子束剥离技术,还可以实现对样品元素的深度分析;
3.XPS广泛应用于化学化工,材料,机械,电子材料等领域。
主要附件   
Ar离子溅射剥离

2. X射线多晶(粉末)衍射仪(XRD)
型号: BRUKER D8 ADVANCE
帕纳科 锐影Xpert Pro MPD   D/max2200PC
主要规格及技术指标:
满足广角(2°~148°)和小角衍射(0.5°~10°);靶材:铜靶,钴靶
材料要求:
1.固体粉末样品不少于30mg,粒径约40μm(320目)
2.块体样品形状不能超过长4cm,宽4cm,高0.5cm,最好1cm左右
主要功能及应用范围:
可对样品进行结构分析,如物相定性和定量分析,点阵参数测定,晶粒尺寸及点阵畸变测定,残余应力测定,结晶度测定等

3.BET 比表面和孔径分析仪
型号:麦克 ASAP2020、麦克 ASAP2460
主要规格及技术指标:
借助于气体吸附原理(典型为氮气)可进行等温吸附和脱附分析,用于确定比表面积、微孔体积和孔面积、中孔体积、总孔体积等。
两种测量模式:(两者不能同时测试)1、 BET+孔径分析(大于 2nm);2、 单一微孔分析(0.5nm-2nm)——2 天以上,包括前处理,两次脱气,一次测试,一次自由空间测试
材料要求:
压片,20-60目,直径小于5mm,高度小于10mm;样品比表面积需大于20;样品预处理温度高于200℃;BET 块体尺寸,最长边尺寸必须小于1cm,建议尺寸 8*8*8mm 或者直径 8mm。
主要功能及应用范围:
可测多级微孔/介孔/大孔材料,普通粉体材料的比表面积和孔径。

4.场发射透射电镜(TEM)
型号:Tecnai G2F20、Tecnai G2F30、JEM2100、JEOL2100
主要规格及技术指标:
1.加速电压:200 kV
2.线分辨率:0.14 nm,点分辨率:0.24 nm
3.信息分辨率:0.14nm,放大倍数:60-1000000
材料要求:
粉体样品(有无磁性均可),质量约5mg左右
主要功能及应用范围:
1.主要用于无机材料微结构与微区组成的分析和研究;
2.成像:衍衬像(明、暗场像)、高分辨像 (HREM)、扫描透射像(明场像、环状暗场像、Z-衬度像);
3.微区成分: EDS能谱的点、线和面分析,电子选区衍射;
4.材料范围:无机材料(粉体);不适用于有机和生物材料;
5.表征范围:微观形貌、颗粒尺寸、微区组成、元素分布、晶体结构、相组成、结构缺陷、晶界结构和组成等。

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5.振动样品磁强计(VSM)
型号:squid VSM 美国量子公司
主要规格及技术指标:1.磁场:0-7T
2.测量精度:10-8emu
3.测试温度:2~400K
材料要求:
1.固体,粉末,薄膜,单晶,液体等,粉体量在20mg-200mg;块体尺寸,长、宽和高不超2mm;
2.测试前需提前称重,方便数据处理。
3.需备注测试磁场强度
主要功能及应用范围:
材料的磁性测量:磁滞回线,初始磁化曲线,磁矩-磁场等;软磁测量;对材料各向异性的磁性测量。

6.完全无液氦综合物性测量系统(PPMS)
仪器型号 :Quantum Design
主要规格及技术指标:
温控范围:1.9K-400K连续控制,升降温速率最高可达20k/min
磁场控制:最低磁场-9T,最高场9T,升降磁场最高速率220Oe/sec
真空度小于 10e-5torr
液氮消耗:无需灌装液氦或液氮,通过制冷机直接液化少量氦气,对样品进行控温
材料要求:粉体样品,块体样品均可,块体尺寸一般不超过10mm,质量在2mg-100mg
主要功能及应用范围:
材料的磁性测量:磁滞回线,初始磁化曲线,磁矩-磁场等;软磁测量;对材料各向异性的磁性测量。

7.动态接触角测量仪
型号:DCAT11
主要规格及技术指标:
接触角 0-180°;分辨率正负 0.01;表界面张力 1-1000Mn
样品要求:
试样直径 5cm 左右,厚度不限,要求试样与测试液体是不润湿的。
主要功能及应用范围:
测量表面/界面张力,动态接触角,密度

8.矢量网络分析仪
仪器型号:安捷伦 Keysight E5071C ENA、安捷伦 PNA-N5244A
主要规格及技术指标:
1.广泛的动态范围:在测试端口处具有> 123dB的动态范围(典型值)
2.极快的测量速度:全双端口校准时为41ms,1601点
3.低迹线噪声:70 kHz 中频带宽(IFBW)处为 0.004 dB rms
4.集成的S参数测试装置
5.端口选项:2端口和4端口
6.平衡测量能力(4端口选件)
7.同轴环:外径是7mm,内径是3mm,高是2mm
材料要求:
粉体样品,质量不少于1g,厚度不可超过30μm
弓形尺寸要求至少180*180mm,厚度5mm左右
主要功能及应用范围:
测试材料在微波频段2-18 GHz的复介电常数和复磁导率,反射损耗等

9.四探针测试仪
仪器型号:H7756
主要规格及技术指标:
电阻率测试范围:10-5 -105Ω·cm
不同位置的5个点做平均值
材料要求:
薄膜,提供准确膜厚,厚度均匀,块体上下平行,最好抛光处理; 厚度在 50μm 至 3mm之间,长宽尺寸:10mmx10mm;粉体提供 3-5g,压片测试
主要功能及应用范围:
测试薄膜、涂层或块体材料的电阻率和电导率

10.粉末电阻率测试仪
仪器型号:ST2722-SD
主要规格及技术指标:
ST2722-SD型粉末电阻率测试仪是四端子法电阻率测试仪与自动化粉末压片机相组合,测试粉末“电阻率-压强”特性曲线的集成化、智能化测量仪器。
四端子法符合 GB/T 24521-2009 和 YS/T 587.6-2006 有关国标和行业标准。
15*10 -6到200*103Ω·cm
材料要求:粉体提供3-5g,压片测试
主要功能及应用范围:
测试粉末的电阻率和电导率

11.电阻率测试仪
仪器型号:Keithley 2010+2410
主要规格及技术指标:
可选择测试电流或电压
附有Keithley 2010+2410+四通道自动变温
材料要求:
样品长宽小于20mm,表面平整;需要引贵金属(Pt)电极,上中下结构,上电极/样品/下电极;所以如果是薄膜样品不要带有基底,或者薄膜镀在Pt基片上也可
主要功能及应用范围:
测试固体的电阻率和电导率

12.铁电测试仪
仪器型号:Radiant Premiere II+TF2000
主要规格及技术指标:
测量温度:室温~800℃;升温速率:1~10℃/min;
测试精度:±0.1℃;控温精度:±1℃
测试电压:0~100V,100~4000V;
电滞回线测试频率:0.03Hz~100KHz
材料要求:
块体样品尺寸:直径小于15mm,厚度小于3mm
主要功能及应用范围:
可以测试铁电材料的电滞回线,饱和极化Ps、剩余极化Ps、矫顽场Ec、漏电流、疲劳、保持、I-V和开关特性等性能的测试,能够较全面准确地测量铁电薄膜的铁电性能。
最高测试温度800℃,可配置薄膜和块体测量夹具,可广泛应用于薄膜、厚膜和块状陶瓷、铁电器件以及储存器等领域的研究

13.射频阻抗分析仪
仪器型号:安捷伦 E4491A
主要规格及技术指标:
测试频段范围:1MHz-3GHz
材料要求大于3cm正方形或者直径3cm以上的圆片,厚度大于0.3mm
主要功能及应用范围:
测试介电常数和损耗角正切值
微/小电流测试系统
仪器型号:LAND-CT2001A
材料要求:样品量,100mg以上。
主要功能及应用范围:
适用对象:材料研究、扣式电池以及常规手机电池等。 锂电池正负极材料,电解液的性能评价,包括从材料混浆、涂布、电极烘干、电池组装以及充放电测试、循环伏安、交流阻抗测试等一整套评价体系。

14.霍尔效应测试仪
仪器型号:美国的  LAKESHORE 7707
材料要求:
边长与厚度,比值,希望在10或更大的比例,一般建议10*10m厚度0.3-0.5mm;不小于5*5mm 因为5*5mm以下,很不好引电极,手工引铟电极。
主要功能及应用范围:
主要用于测量半导体材料的载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数、导电类型等重要参数。
半导体参数测试仪
仪器型号:Agilent 4155C、B1500
材料要求:电阻:>103Ω;固体块状试样或完好器件
主要功能及应用范围:
材料或器件(三极管、二极管等)微小电量的I-V、C-V、I-T特性曲线分析。

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