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磁控溅射Au，金靶表面这样正常吗？已有1人参与
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溅射功率400-600w 工艺气压0.5pa溅射后，取下看是这样正常吗？还是溅射功率高导致的靶材是φ150的 发自小木虫IOS客户端 |
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Sci6666
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2楼2019-08-07 19:12:57
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3楼2019-08-08 23:04:55
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4楼2019-08-09 10:50:47
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5楼2019-08-09 17:12:26
6楼2019-08-13 16:01:35
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因为金本身沉积速率就比较快，目前400w沉积速率133nm/min，还是挺快的，我怀疑是不是沉积速率太快了，还有就是不清楚这么快的沉积速率对结合力会产生什么影响 发自小木虫IOS客户端 |
7楼2019-08-21 17:21:30
北京中晟材料
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8楼2019-08-24 10:54:31
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9楼2019-08-25 18:50:51
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10楼2019-08-25 21:24:07
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