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kin123321新虫 (初入文坛)
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[交流]
如何提高正性光刻胶侧壁的垂直度和平整度？
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正胶显影后侧壁不够垂直而且很多褶子，刻蚀出来的图形很多毛刺，边界上约200nm的毛刺波动。坚膜后侧壁就像塌了一样。。想在侧壁上做一些微结构就很困难。。 未坚膜.png  坚膜后.png |
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2um宽度的线条，首先你要确定你的光刻胶厚度，光刻胶的技术参数，确定你使用的光刻胶能否满足你的曝光要求， 其次是你的曝光设备能力，曝光过程中晶圆与光刻版接触存在间隙的话也不太作出陡直的形貌。 从你发的SEM图看，显影后烘明显光刻胶已经玻璃态了，是不是后烘烤温度时间太高太长了？ 显影后有很多褶子的，线条呈现锯齿状有可能曝光时光刻胶与光刻版之间间隙过大导致，或者光刻胶厚度过大，也有一种可能是光刻版脏污导致，特别是用无尘布反复蘸取丙酮擦拭光刻版，这样做光刻版图形边缘会有毛刺状残留，判断方法是不同晶圆同一位置毛刺位置形状相同。 最好你把你的情况详细一些写出来，涂胶程序转速，前烘温度时间，光刻模式，后烘时间温度，显影时间在加上两个光刻显影后和坚膜后的图，光刻胶厚度，型号，光刻机型号，晶圆尺寸是破片还是晶圆？才更好判断一些 |
7楼2018-11-23 11:30:39
kin123321
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2楼2018-11-07 20:08:59
shijie6356
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shijie6356
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9楼2019-03-11 20:06:10
ouyang290110
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10楼2019-05-19 16:20:04
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