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氧化石墨烯的粉末衍射在44度附近出现的峰是什么呢
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新手按照《acs nano，2010， improved synthesis of GO》方法合成的氧化石墨烯，加完H2O2后，直接离心去除上清液， 用稀盐酸和水反复洗涤，直至检测无硫酸根且pH达到6左右，中途一直弃清液，留沉淀，用的8500r/min与15min，最后在 真空50度下干燥得到深褐色薄膜状产品，粉末衍射在11度附近尖锐的峰，但在44度及65附近都有峰出现，尤其是44度处的 峰还挺强，现在的问题是（1）杂峰是不是残留的石墨的峰？（2）首次离心是不是应该先低速离心，弃去沉淀？求各位大神解答！  |
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