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求助关于 磁控溅射 二氧化钛 使用靶材的问题！十分感谢！已有4人参与
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最近开始用所里的磁控溅射仪器做二氧化钛薄膜，镀在金属substrate上。看了不少文献，还有些初级的问题想求助大家确认下： 1. 如果使用纯钛靶材： A. 先在没有氧气的情况下，镀一层Ti在基底上，再在氧气气氛下300度热处理，能得到锐钛矿结晶吗？ B. 在有氧气的气氛下镀膜，锐钛矿的结晶情况如何？这种情况下对电压以及频率的掌控不好，是不是有损坏靶材的可能？ 2. 直接使用TiO2为靶材：结晶的情况如何，相比之下是否更方便？ 十分感谢！  |
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 薄膜制备与特性 |
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