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光刻胶,硅片,各种衬底,特殊耗材,委托加工
江苏省苏州市工业园区若水路398号 中科院苏州纳米所B705
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【调剂】北京石油化工学院2024年16个专业接受调剂
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研材-jiali

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内容

晶圆喷胶机 SC-200-V
       喷胶机是一种能够覆盖崎岖形貌的光刻胶涂覆设备,同时对厚胶涂覆和节省光刻胶有着非常明显的优势。雾化喷头将光刻胶雾化成雾滴,溅到衬底或晶圆表面,热板加热将光刻胶溶剂蒸发,使得有用的树脂留在衬底或晶圆表面,形成相对均匀的光刻胶覆盖。 雾化喷头在衬底或晶圆上方做S形运动, 以保证每一处被均匀的被覆盖。当雾化喷头经过若干次S形扫描, 衬底表面形成均匀的光刻胶覆盖。
产品性能 Product Performance      
1.喷胶范围:8英寸(向下兼容)。2.喷胶厚度均匀性:<10%@10μm            3.喷胶结构深宽比:<1。4.热板温度范围:常温~125℃                 
* 可定制其他规格的喷胶机。如弧形喷胶机。
应用领域  Application
1.MEMS器件制造。2.CIS三维封装。3.3D互联。4.特种半导体器件制造。
喷胶机,热板,匀胶机,显影机,键合机,老师再也不用担心我的实验啦!
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可编程热板 PHP-8/可编程热板 SPHP-8
产品性能 Product Performance
1.最高温度(根据不同的加热器实现不同的温度): a)150℃ ;b)200℃ c)300℃; d)500℃ ;
2.可设阶梯温度值30个阶段单个阶段定时最长可达50分钟;3.可调升温度速率,手动输出加热输出值可设定,范围为0.1~1;4.Lift pin 定时取片功能;5.Lift pin 高度可调,精度可达100μm可实现接近式烘烤;6.可储存20个程序;7.温度精度:<100℃ ±1℃; >100℃  <1%. 温度均匀性:<100℃ ±1℃; >100℃  <1%.8.阳极氧化铝或Teflon表面等(具体材料与温度有关);9.含密封上盖
*SPHP-8没有Lift pin和密封上盖(可定制密封上盖)。
喷胶机,热板,匀胶机,显影机,键合机,老师再也不用担心我的实验啦!-1
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显影机
产品介绍
显影机一般由工艺腔体、控制系统、动力部分及显示部分、夹具、储液罐等组成。采用喷雾式或者puddle式显影方法,晶圆被吸附于真空吸盘夹具上并旋转,显影液通过喷嘴喷射或者滴到晶圆上,显影完成后清洗喷嘴对晶圆进行冲洗,提高晶圆的旋转速度,将其甩干。
产品性能
1.基片尺寸:≤6英寸;2.PP 耐腐蚀腔体;3.转速范围:0-1500rpm;4.转速精度:±5rpm;5.多喷嘴自动切换;6.喷雾形状:锥形、扇形;7.手动式压力调节;8.触摸屏(10.4英寸)操作;9.大容量压力罐(15L)。
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匀胶机 RC-150
产品性能 Product Performance
1.调速范围:300~8000rpm,可分十段自由设定;2.匀胶机时间设定:设定时间0~200s,可根据分段匀胶自由设定;3.胶的均匀性:优于±2%;4.控制方式:全自动化方式;5.托盘尺寸:6英寸(向下兼容);*可按客户需求定制。
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苏州研材微纳科技有限公司
Suzhou Research Materials Microtech Co., Ltd
Tel: 0512-68636965
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Fax: 0512-62872362
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合作单位友情链接:
中科院苏州纳米所http://www.sinano.cas.cn/
中科院微电子所http://www.ime.ac.cn/
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研材-jiali(金币+1): 谢谢参与
58楼2016-04-21 15:19:58
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