旋涂法制备薄膜的技术属于什么？CVD吗？还是溶胶-凝胶法 返回小木虫查看更多
coating
溶胶-凝胶法，spin-coating
旋涂跟CVD和PVD不是一回事。例如旋涂光刻胶，是先把液态的光刻胶滴在晶片中心，然后晶片旋转，靠离心力将光刻胶均匀涂覆在整个晶片表面。例如PECVD沉积SiO2是先向反应室通入硅烷和笑气，加射频激发等离子体，等离子态的硅烷和笑气反应生成氧化硅沉积在晶片表面。例如PVD沉积Cu是要有一个铜靶材，将Ar通入反应室，在铜靶材上加直流或射频电压，通入的氩气被电离成离子，轰击靶材，被轰击出的铜原子沉积在晶片表面。 ，
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溶胶-凝胶法，spin-coating
旋涂跟CVD和PVD不是一回事。例如旋涂光刻胶，是先把液态的光刻胶滴在晶片中心，然后晶片旋转，靠离心力将光刻胶均匀涂覆在整个晶片表面。例如PECVD沉积SiO2是先向反应室通入硅烷和笑气，加射频激发等离子体，等离子态的硅烷和笑气反应生成氧化硅沉积在晶片表面。例如PVD沉积Cu是要有一个铜靶材，将Ar通入反应室，在铜靶材上加直流或射频电压，通入的氩气被电离成离子，轰击靶材，被轰击出的铜原子沉积在晶片表面。
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