氧化铝介电层被后续工艺中的显影液腐蚀
镀了一层50nm的氧化铝薄膜作为场效应管的栅极介质，后续工艺中通过光刻制备电极。选用EPG535正胶，显影液为0.5%NaOH或2.38%TMAH，都发现这层氧化铝被腐蚀了（紫外光刻显影液基本都是强碱性的），有虫子遇到过这种情况吗？如何避免呢，谢谢！
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如果一定要这么做换负胶试试，显影液兼容就可以
请问有推荐的胶吗？我这有AZ5214反转胶，可用作负胶，但显影液也是碱性的。氧化铝主要是被碱性显影液腐蚀
你确定是氧化铝？
是的呀，一般用氧化铝或者二氧化硅
一般正胶显影液都是强碱性的，会与氧化铝和二氧化硅反应的；Al₂O₃ + 2NaOH = 2NaAlO₂ + H₂O
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