缺陷形成能计算
重复文献数据练手,计算GaN中Ga单空位形成能。 Ga空位可能有0,-1,-2,-3等价态。 利用公式1(如下计算形成能)。
INCAR如下图所示,此为结构优化步骤。 利用NELECT改变电子数量 ,IDIPOL、EPSILON修正。K取G点1 1 1。POTCAR考虑了d层电子。
错误描述:
(1)带电缺陷态,若去掉蓝色的三行命令(NELECT ,IDIPOL , EPSILON),计算的形成能为负值,但是形成能之间相差过大(5~10eV左右),明显不正确;
(2)若加上蓝色三行命令,形成能为正值。
不知道是什么原因导致,是结构优化过程不合理?还是修正命令出错? 若能指教,不胜感激。
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不太懂缺陷,帮顶。你可以试试一些软件
PyCDT: A Python toolkit for modeling point defects in semiconductors and insulators
https://www.sciencedirect.com/sc ... i/S0010465518300079
pycdt 是一个VASP pre-processing and post-processing 的软件,帮助你产生POSCAR INCAR KPOINTS POTCAR,你只需提交任务就行。
有没有double check 你的NELECT设置是否合理?简单说明,你是如何设置的?
嗯,确实是这样设置的,那么设置上应该没有错,就要注意计算有没有出错了,使用HSE06计算的吗
,
你计算过后的带电体系形成能有修正吗?