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求助:直流磁控溅射Ti靶,在高功率低腔体气压下溅射,靶材打花了

作者 李先辉lxh
来源: 小木虫 350 7 举报帖子
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1:Ti靶在300W的溅射功率下,出现如图的情况,是否正常?对后面该靶继续使用是否有不利的影响。
2:靶材能承受的最大的溅射功率/溅射电流是由什么决定的

求助:直流磁控溅射Ti靶,在高功率低腔体气压下溅射,靶材打花了
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  • 精华评论
  • 科学发展观de

    需要SIMS测试可以联系553503294qq

  • kangye_1989

    应该不影响,不过可以将表面的一层先打掉在继续使用

  • 野人禾禾

    不影响,这是正常现象。

  • 起名字真难诶

    靶中毒了呗,每次溅射前打掉表面的一层

  • casifa

    这个钛靶晶粒尺寸太大了,肉眼都能看到雪花片,明显不合格。换个好靶再弄呗,

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