是让基底旋转还是放在两靶中心位置让其共溅射! 返回小木虫查看更多
都可以
估计后一种不均匀
这两种方式在一定范围内都可以改善涂层的均匀性,适当提高靶基距离也可以提高均匀性,改变基体与靶材的相对角度也可以改善均匀性,一般远端稍微倾斜3到5度
是让基底旋转还是放在两靶中心位置让其共溅射 这两种方法都可以,看你设备的情况允许。一般来说,第一种镀出膜层的效果要更好一些 欢迎互相分享,
都可以
估计后一种不均匀
这两种方式在一定范围内都可以改善涂层的均匀性,适当提高靶基距离也可以提高均匀性,改变基体与靶材的相对角度也可以改善均匀性,一般远端稍微倾斜3到5度
是让基底旋转还是放在两靶中心位置让其共溅射
这两种方法都可以,看你设备的情况允许。一般来说,第一种镀出膜层的效果要更好一些
欢迎互相分享
,