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磁控溅射镀膜两靶共溅射应该怎么溅射?

作者 霸天虎123
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是让基底旋转还是放在两靶中心位置让其共溅射!

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  • 精华评论
  • 138dong

    都可以

  • lqm070

    估计后一种不均匀

  • L小懒虫

    这两种方式在一定范围内都可以改善涂层的均匀性,适当提高靶基距离也可以提高均匀性,改变基体与靶材的相对角度也可以改善均匀性,一般远端稍微倾斜3到5度

  • pvdmaterial

    是让基底旋转还是放在两靶中心位置让其共溅射

    这两种方法都可以,看你设备的情况允许。一般来说,第一种镀出膜层的效果要更好一些

    欢迎互相分享

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