如何提高紫铜的电弧沉积速率
各位大神，之前采用直流或中频磁控溅射紫铜，为提高沉积速率，现采用电弧沉积，辉光较弱，沉积速率较慢（查资料说由于紫铜密度较大需要强磁场），除了加强磁场外还有什么能提高沉积速度的方法，谢谢！
返回小木虫查看更多
今日热帖
猜你喜欢
板块导航
- 网络生活
- 资源共享
- 化学化工
- 专业学科
- 科研生活
- 生物医药
- 材料
- 计算模拟
- 学术交流
- 出国留学
- 注册执考
24小时热帖
换一批
- 下载小木虫APP
- 与700万科研达人随时交流
-
二维码
-
IOS
-
安卓
京公网安备 11010802022153号
额，紫铜不就是单质铜么，不存在所谓的密度大沉积速率慢的问题。
关键你所需要的沉积速率是多少？铜的沉积速率是很快的。
辉光弱，说明磁场弱。如果不改磁场，你可以提高功率，降低气压，缩短靶基距。
功率提高了效果基本没有，靶基距牵扯到设备硬件了改不了，降低气压是什么意思，目前工艺压力0.35Pa左右，需要降到很低吗？谢谢
，
功率提高效果没有，说明你的阴极问题很大。其他措施我也想不到了，气压0.35pa可以。
好的，谢谢了