TFT中,旋涂法做氧化锆薄膜出现破裂现象
请教各位大神,我在ITO玻璃上旋涂氧化锆栅介质层薄膜时,一到预退火或者是退火薄膜就会破裂(雪花状),一开始是从边缘破裂,然后慢慢整个片子全部裂了,请问是什么原因,或者是有没其他方法。谢谢!我的大致工艺如下:
1、八水氯氧化锆溶于乙二醇甲醚形成0.3mol/L,超声振荡,静置一天
2、旋涂一层后于120℃预退火10分钟,冷却下来再旋一层,再120℃预退火10分钟
3、旋涂三层后在300℃下退火一个小时
现象就是第一层预退火后不裂,第二层后边缘就开始裂开了,到后面就全裂了。试过降低预退火温度,但到了最后的300℃退火时又裂了。还望大家不吝赐教。非常感谢!@hwweven 返回小木虫查看更多
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旋涂薄膜退火时开裂一般是膜太厚造成的。可能有效的改进建议:a) 降低前驱体溶液浓度;b) 在前躯体溶液中加入稳定剂,比如乙酰丙酮;c) 每涂一层就进行一遍完整的退火工艺,降低退火时的应力;d) 针对氧化锆体系,高温时存在四方到立方的相变,体积会发生改变容易产生应力造成开裂,通过稀土掺杂可以稳定其相态(如氧化钇稳定的氧化锆(YSZ))。目前的处理温度下应该还没有遇到这个问题。
谢谢回复!还有请问片子在旋涂之前进行Plasma处理会不会对解决这个问题有帮助,我之前是没有的。还有就是与升温降温的快慢有没关系
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我每一层膜大概20nm
好的,谢谢
您知道如何在旋涂后怎么去除高沸点溶剂吗