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Cu/SiO2催化剂 H2-TPD出现正峰?怎么回事,使用的是TCD检测器,脱水处理……

作者 cz2xz
来源: 小木虫 400 8 举报帖子
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H2-TPD出现正峰,怎么破,是样品量少的原因吗?我只是用20mg,各位虫友有遇到相似的情况吗?

Cu/SiO2催化剂 H2-TPD出现正峰?怎么回事,使用的是TCD检测器,脱水处理……
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  • 精华评论
  • 铁血军魂

    基线不平

  • zyhou

    是啊,你应该给出纵坐标的刻度,看看到底是基线漂移,还是信号?

  • cz2xz

    引用回帖:
    3楼: Originally posted by zyhou at 2018-01-07 20:17:31
    是啊,你应该给出纵坐标的刻度,看看到底是基线漂移,还是信号?

    重新上传了张图,您给看看哈
    Cu/SiO2催化剂 H2-TPD出现正峰?怎么回事,使用的是TCD检测器,脱水处理……-1
    1515377557(1).png

  • zyhou

    400度以前还算正常吧。后面的就说不清楚了,催化剂脱水?分解?载气流量变化?都有可能

  • cz2xz

    引用回帖:
    5楼: Originally posted by zyhou at 2018-01-08 10:37:38
    400度以前还算正常吧。后面的就说不清楚了,催化剂脱水?分解?载气流量变化?都有可能

    原图是这样的,刚才那张我翻转了,我现在加大催化剂的量看看情况是不是有所改改善……
    Cu/SiO2催化剂 H2-TPD出现正峰?怎么回事,使用的是TCD检测器,脱水处理……-2
    1515379440(1).png


  • 白水山石

    Cu的H2-TPD?Cu对氢的吸附很弱的,TPD想表征什么信息?从出峰的位置看,结果更像TPR。

  • cz2xz

    引用回帖:
    7楼: Originally posted by 白水山石 at 2018-01-08 11:04:55
    Cu的H2-TPD?Cu对氢的吸附很弱的,TPD想表征什么信息?从出峰的位置看,结果更像TPR。

    是啊,现在感觉可能量用少了   基线的问题,U已经加大用量 看看效果

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