本人在磁控溅射上镀ZnS,射频,上次能起辉,这次不能起辉。去除,用砂纸轻轻打磨表面,还是不起辉? 返回小木虫查看更多
这似乎是靶材发生中毒了吧。看看这个链接有无参考价值:https://wenku.baidu.com/view/2e8bbc2e7e21af45b207a816.html。
ZnS没有溅射过,但是溅射过CdS 值得注意的是硫化物靶材和氧化物靶材有很大的不同。 硫化物的致密度以及结晶性都不高,而氧化物可以类似陶瓷。这方面的区别会导致离子轰击过程中会产生离子注入的情况,也就是有效撞击并不多,二次电子不多,所以辉光很容易不够亮。(建议采用下述3) 1. 上次射频溅射的参数有没有,功率和自偏压,以及气压和何种气源; 2. ZnS靶材,采用射频溅射一般不存在靶材中毒的情况(排除);但是表面成分可能会随着溅射发生变化,所以打磨也是对的。 3. 怀疑上次溅射的条件比较极限,你可以尝试将气压提高到1~2pa,先启辉预溅射3分钟,然后再将气压降低到你所需要的值。随时关注辉光变化。当辉光暗到一定程度就不能维持了。 以上,
楼上解释好清楚,赞一个
这似乎是靶材发生中毒了吧。看看这个链接有无参考价值:https://wenku.baidu.com/view/2e8bbc2e7e21af45b207a816.html。
ZnS没有溅射过,但是溅射过CdS
值得注意的是硫化物靶材和氧化物靶材有很大的不同。
硫化物的致密度以及结晶性都不高,而氧化物可以类似陶瓷。这方面的区别会导致离子轰击过程中会产生离子注入的情况,也就是有效撞击并不多,二次电子不多,所以辉光很容易不够亮。(建议采用下述3)
1. 上次射频溅射的参数有没有,功率和自偏压,以及气压和何种气源;
2. ZnS靶材,采用射频溅射一般不存在靶材中毒的情况(排除);但是表面成分可能会随着溅射发生变化,所以打磨也是对的。
3. 怀疑上次溅射的条件比较极限,你可以尝试将气压提高到1~2pa,先启辉预溅射3分钟,然后再将气压降低到你所需要的值。随时关注辉光变化。当辉光暗到一定程度就不能维持了。
以上,
楼上解释好清楚,赞一个