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恒电流沉积(计时电位法)的参数设置

作者 dcm20102
来源: 小木虫 600 12 举报帖子
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我要在Cu2SO4溶液中电沉积Cu2O, 恒电位沉积电位为-0.45V vs SCE,用的是CHI760D工作站,不知道如何设置参数,如下设置有没有问题?能否给个建议,越详细越好~~另外我因为要控制沉积的厚度,能否通过沉积时间控制沉积电量呢?

阴极电流:0.00018A
阳极电流:0
高电位限制: 1
High E hold time: 0
低电位限制:-1
Low E hold time: 0
阴极时间(秒):11700
阳极时间(秒):0
起始极性: 阴极
数据存贮间隔: 0.1
段数:1
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  • 精华评论
  • yanflower7133

    恒电位沉积电位为-0.45V vs SCE,你是想恒电流沉积还是恒电位沉积啊?

  • jttk

    沉积单质铜的话是可以用时间来控制电量进而控制沉积厚度的。

  • wenchao58

    我也在做这方面的工作,求解!!

  • ujn_cxd

    阴极电流:0.00018A
    阳极电流:0
    高电位限制: 1
    High E hold time: 0
    低电位限制:-1
    Low E hold time: 0
    阴极时间(秒):11700
    阳极时间(秒):0
    起始极性: 阴极
    数据存贮间隔: 0.1
    段数:1
    电流极性切换优先:时间

    你的沉积电流需要通过电流时间曲线中找出你需要的电流大小,你自己先测一下电流时间曲线,然后选择,一般是跟稳定了的电流一样大就行,这个电流是阴极电流,阳极的不用管。阴极时间我们沉积的时候是一个半小时,数据存储间隔0.225s,别的没什么了吧,你试一下,俺们不是你这个工作站。太详细的不好说。

  • xz_mouse

    引用回帖:
    1楼: Originally posted by dcm20102 at 2011-08-16 10:01:40:
    我要在Cu2SO4溶液中电沉积Cu2O, 恒电位沉积电位为-0.45V vs SCE,用的是CHI760D工作站,不知道如何设置参数,如下设置有没有问题?能否给个建议,越详细越好~~另外我因为要控制沉积的厚度,能否通过沉积时间控制沉 ...

    楼主这个恒电流沉积做出来了吗?同样也遇到这种参数设置的问题,阴极阳极电流有的人说符号相反,数值一样,有的说若采用阴极电流沉积,阳极电流应该设为0,到底应该如何呢?

  • kaven-johe

    引用回帖:
    7楼: Originally posted by xz_mouse at 2012-03-08 20:57:55:
    楼主这个恒电流沉积做出来了吗?同样也遇到这种参数设置的问题,阴极阳极电流有的人说符号相反,数值一样,有的说若采用阴极电流沉积,阳极电流应该设为0,到底应该如何呢?

    我做过这种恒电流沉积,参数设定和楼主基本一致。如果做阴极恒流,那么就把阳极电流设为0,同时阳极时间也可以设为0,也可以设为很小的一个时间,如0.1s。我想说,这么做,可以实现沉积。但 是不是完全正确我也不清楚,因为我不是做电化学分析,我只要沉积结果就可以了。不知道你的目的是什么?可以试试,呵呵

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