编辑推荐语
     在我们的日常生活中，很多人的脑子里都充斥着“薄膜”一词，他们围绕着薄膜夜以继日地开展工作，从事研究、学习和相互交流。可以说制作薄膜、使用薄膜以及从事薄膜相关产业的人遍布世界各地。 麻莳立男所著的《微小世界里的新天地：神奇的薄膜》主要介绍了薄膜相关领域的前辈们留下的这一技术中的基础内容。如果读者希望更深入地了解和研究这一领域，可以查找卷末列出的参考书籍和参考文献，从中获取自己需要的相关信息。
内容提要
     在我们生活的世界中，各种各样形形色色的事物和现象，其中都必定 包含着“科学”的成分。在这些成分中，有些是你所熟知的，有些是你未 知的，有些是你还一知半解的。面对未知的世界，好奇的你是不是有很多 疑惑、不解和期待呢？“形形色色的科学”趣味科普丛书，把我们身边方 方面面的科学知识活灵活现、生动有趣地展示给你，让你在畅快阅读中收 获这些鲜活的科学知识！ 我们最新式的笔记本电脑和手机在变得越来越小的同时，性能却得到 了几倍几十倍的提升。正是因为薄膜这种尖端的纳米技术，我们的生活中 才有了大屏幕超薄液晶电视、超大容量存储媒介、越来越轻巧功能却越来 越强大的各种电子产品。就让麻莳立男所著的这本《微小世界里的新天地 ：神奇的薄膜》为你生动地讲解一下这项支撑现代高科技社会的基础技术 吧。 《微小世界里的新天地：神奇的薄膜》适合青少年读者、科学爱好者 以及大众读者阅读。
作者简介
     1934年生于日本爱知县，1957年静冈大学工学部电子工学专业毕业，同年加入日本电气株式会社，1967年被调任至日电Valian(现佳能ANELVA株式会社)，1990年至2010年任东京理科大学教授和返聘教授、日本真空协会个人理事、工学博士。主要著作有《话说真空》、《薄膜制作基础》、《超微细加工基础》、《简明电磁学》、《超微细加工人门》、《简明薄膜读本》(日刊工业出版社)等。 1993年3月获东京工业大学金属工学博士学位；1997年10月在日本超高温材料研究所任新能源产业技术综合开发机构研究员；2001年5月任美国加州大学洛杉矶分校材料科学与工程系研究员；2009年9月受聘于大连理工大学，任材料学院教授、能源研究院副院长至今。现从事冶金法提纯多晶硅材料、薄膜材料、高温材料等新能源材料的研究。 1984年毕业于大连理工大学金属材料专业；1993年赴日本留学；1997年获东京工业大学金属工学博士学位，后任日本国立电气通信大学量子物质工学助教；2004年任东京工业大学材料工学副教授至今。现从事金属物理、功能材料、结构分析等材料科学的研究。
目录
第1章  幸福生活从美丽与微观开始
  001  展现缤纷色彩的颜料用微小粉末描绘美丽世界  002
  002  复制美丽——相片彩色相片与数码相机  004
  003  薄膜技术使机器人不断进化利用薄膜材料与计算机进行精密制备  006
  004  创造五种感官视觉、听觉、嗅觉、味觉与触觉的创造  008
  005  制造人工智能  010
  006  我们身边的电子产品都在使用薄膜  012
  007  利用不分解的压延技术,可以薄到什么程度  014
  008  制造薄膜与制作精细图案  016
  COLUMN  真空的含义  018
第2章  制备薄膜的重要环境条件——真空
  009  真空——压强低于大气压的空间状态  020
  010  真空的单位与压强的单位：帕斯卡(Pa)  022
  011  抽出和吸附——真空泵的分类  024
  012  真空的分析和测量真空计  026
  013  真空装置的制造方法  028
  COLUMN  质量瞬移  030
第3章  薄膜的制备
  014  薄膜的形成——先气化,再固化沉积  032
  015  四种气化源034
  016  单层生长与形核长大薄膜的生长①  036
  017  薄膜内部缺陷薄膜的生长②  038
  018  仅有薄膜还不够薄膜与基板的结合  040
  019  目标：单晶薄膜  042
  COLUMN  出身和教育同样重要044viv
第4章  薄膜特有的性质
  020  薄膜的密度和厚度会随时间减小  046
  021  薄膜电阻的变化比体材料大  048
  022  热稳定性降低通过时效处理加以克服  050
  COLUMN  薄膜和基板的连接  052
第5章  增强基板与薄膜结合的技术
  023  制膜的基础：平整的基板  054
  024  前期处理：使基板表面完全裸露  056
  025  前期处理的最后工序：干燥  058
  026  制备附着强度更强的薄膜  060
  027  改变气化源、增加附着强度  062
  028  薄膜与基板的相合性更为重要  064
  029  着陆点：险峻的山地  066
  030  得到希望的薄膜组成  068
  031  制造用于大面积集成电路的非晶薄膜  070
  032  电迁移断线及其解决方法  072
  COLUMN  太阳之子——等离子体  074
第6章  等离子体在薄膜制备中的重要性
  033  等离子体的神奇之处及其应用  076
  034  通过放电获得等离子体  078
  035  低气压(良好真空)下的磁控放电  080
  036  产生薄膜用等离子体的五种方法  082
  037  薄膜制备的难题——尘埃  084
  COLUMN  望远镜和照相机视场变亮的奥秘  086
第7章  从古代沿用至今的蒸镀法
  038  蒸发源  088
  039  加工等厚膜的方法  090
  040  离子镀的使用  092
  041  进一步发挥离子的作用  094
  042  防止蒸镀材料与薄膜间的成分变化激光沉积法  096
  043  制作透明导电的薄膜透明导电薄膜的蒸镀方法  098
  COLUMN  活学活用  100
第8章  大面积气化源、适于批量生产的溅射法
  044  溅射率是由离子能量和薄膜材料的种类决定的  102
  045  溅射产生的原子遵循余弦法则且速度非常快  104
  046  溅射的主要方式106
  047  以低电压、定压(高真空)为目标的磁控溅射  108
  048  支撑半导体IC高集成度发展的铝合金溅射  110
  049  利用反应溅射制作高性能电阻膜  112
  050  用溅射法制作氧化物高温超导膜  114
  051  低电压下制造透明导电膜(氧化物)ITO  116
  052  薄膜加工的过渡——从平面成膜到微孔成膜  118
  053  利用离子进行超微细孔的填埋  120
  054  向高真空、无氩气溅射的过渡  122
  COLUMN  神奇的过程——从气体到薄膜  124
第9章  由气体制作薄膜的气相沉积法
  055  气体向固体的转变：薄膜的气相沉积  126
  056  很多的CVD方法已被实用化  128
  057  CVD法制备IC中至关重要的硅系薄膜  130
  058  高清彩色电视用的硅薄膜  132
  059  高诱电率薄膜和低诱电率薄膜的制作  134
  060  用气相沉积法制备金属导体薄膜  136
  061  表面改性法制备氧化薄膜、氮化薄膜  138
  COLUMN  从水(液体)中提取薄膜(固体)  140
第10章  在液体中制作镀膜
  062  镀膜技术的发展  142
  063  液相镀膜和真空薄膜中的核生长  144
  064  精密镀膜在电气领域的应用  146
  COLUMN  用世界上最小的刀进行切削加工148
第11章  将薄膜加工成电路、晶体管等的蚀刻技术
  065  蚀刻法制备图样：在正确的位置加工正确的形状  150
  066  用气体离子进行蚀刻  152
  067  最关键的一步——等离子体的制备  154
  068  反应气体是重要的  156
  069  决定蚀刻的条件  158
  070  利用极细离子束进行故障修理  160
  071  利用CMP进行平坦化处理  162
  072  无CMP的平坦化技术  164
  COLUMN  向伟大的梦想前进！  166
第12章  薄膜发展的无限可能性
  073  操控原子，制造未来仪器  168
  074  薄膜——带动世界通信网络发展  170
  075  用微动同步器挽救生命  172
  076  生物计算机的使用  174
参考文献  177

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