小木虫

当前位置：首页 > 电化学 >关于在金表面上欠电位沉积铜

关于在金表面上欠电位沉积铜

作者 wal516: 来源: 小木虫 1000 20 举报帖子

各位大神，你们好。最近我在做Au表面上欠电位沉积铜，通过在硫酸和硫酸铜溶液中扫CV确定欠电位沉积的电位。那么CV是从0.6到-0.2还是从-0.2到0.6V。我做出来的CV曲线发现和文章上报道的很大不同，出不来两个氧化峰和两个还原峰，只有两个氧化峰，负扫的时候在较低电位有较大的负电流。所以想问大家是什么原因？具体的步骤是怎么样呢？谢谢大家。返回小木虫查看更多

今日热帖

精华评论

土纸

欠电位还原峰不容易做啊，这个电位下的还原反应都是非稳态的，而且铜都是以原子层厚度级别在沉积，电位扫描首选从正扫描到负电位，但是考虑到au表面的状态，是否足够干净，新鲜，对你的欠电位还原影响应该是很大的，一般来讲，才有窄电位区间快速cv扫描au电极有清洁电极表面的效果，如果阴极电流有较大增长，注意一下电化学工作站参比电极是否设置错误，另外是否发生了析氢，在金的表面析氢是不是发生了去极化，还原初始电位正移，
wal516

谢谢回答。那么金的表面是否干净清洁很难界定吧。做一个plasma处理是不是会好一点. 谢谢
wal516

引用回帖:
5楼: Originally posted by 土纸 at 2017-04-18 09:57:36
越干净越好，可以考虑在硫酸中多圈cv快扫，用生成气体清洁，你说的那个方法我不了解，可以一试，总之，欠电位沉积对工作电极表面状态要求很高，想重复文献的图比较难
...

那再硫酸中的CV扫描区间是-1V到1V（vs.SCE）,可以吗
，
土纸

硫酸最好用优极纯