XRD在25°左右出现了一个未知的峰
材料:在Si基材上制备了600nm的CrN薄膜(Cr100nm打底)
测试商:沈阳东北金属材料研究院有限公司
XRD:日本理学 smart lab
测试参数:低掠角(0.3°和1°),2 theta(20-90°),step 0.01
测试人员说试样放在玻璃片上,但是测出来在25°左右出现了一个未知的峰,和我薄膜的物质不相关,不知道这可能是什么原因。
图中在0.3°和1°低掠角条件下,25°那个峰不一致,但是CrN的峰重合很好,所以怀疑是测试问题。
XRD测试参数.jpg
XRD.jpg
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