XRD在25°左右出现了一个未知的峰
材料：在Si基材上制备了600nm的CrN薄膜（Cr100nm打底）
测试商：沈阳东北金属材料研究院有限公司
XRD：日本理学 smart lab
测试参数：低掠角（0.3°和1°），2 theta（20-90°），step 0.01
测试人员说试样放在玻璃片上，但是测出来在25°左右出现了一个未知的峰，和我薄膜的物质不相关，不知道这可能是什么原因。
图中在0.3°和1°低掠角条件下，25°那个峰不一致，但是CrN的峰重合很好，所以怀疑是测试问题。
XRD测试参数.jpg
XRD.jpg
碳峰.jpg
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纳米薄膜很容易被氧化 是不是被氧化后的峰
那是单晶硅(101)的峰
单晶硅（101）在40.126°， JCPDS #88-2284，和我的未知峰差太多
，
衬底倾斜晶面的峰，可以空扫等条件验证