近来用TCD搭建了一套NH3-TPD装置。 装置的基线问题已经解决,可以走平。 但是在脱附过程中,出峰的地方会出现波浪状峰,并且在峰上升段平稳,而从峰顶开始出现波浪状峰,下降过程中非常明显。见附图 初次涉及催化,所知有限,实在找不到是什么原因造成的,十分困惑 请高人指点!谢谢!
谢谢以上朋友的答复。 现在问题略有改善。但还是不明显。 吹扫的时候 载气是走样品管那段的,可以走平,因此漏气的可能性不大。 样品我试过压片处理的,也试过粉末的,都存在这个问题。 填充样品的时候,我就是直接加到样品管中,没有考虑样品的分散问题,不知道应该怎么才能做好样品的分散? 载气的纯度我倒没考虑过, 如果不纯的话,基线应该也走不平吧? 还有一个问题请教大家。 假设测试过程中存在干扰或者某个波动, 是不是峰的信号越强了,这种干扰对峰的影响越小?峰型会更漂亮,
载气压力不够!我都是0.3MPa
温度控制有问题
你的载气压力太小了,容易受到影响
样品的颗粒大小要一定。另外说明你的 tcd很灵敏
谢谢以上朋友的答复。
现在问题略有改善。但还是不明显。
吹扫的时候 载气是走样品管那段的,可以走平,因此漏气的可能性不大。
样品我试过压片处理的,也试过粉末的,都存在这个问题。
填充样品的时候,我就是直接加到样品管中,没有考虑样品的分散问题,不知道应该怎么才能做好样品的分散?
载气的纯度我倒没考虑过, 如果不纯的话,基线应该也走不平吧?
还有一个问题请教大家。
假设测试过程中存在干扰或者某个波动,
是不是峰的信号越强了,这种干扰对峰的影响越小?峰型会更漂亮,
载气压力不够!我都是0.3MPa
温度控制有问题
你的载气压力太小了,容易受到影响
样品的颗粒大小要一定。另外说明你的 tcd很灵敏