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【求助】射频磁控溅射镀膜

请教各位师兄师姐,采用射频磁控溅射镀膜,靶和基片的距离在60mm以内,每次都能正常起辉光,但基片上却什么也没有。会不会是氩离子没能把靶原子打出来呢?有什么办法解决吗?

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用户评论

可能是打出来,但没沉积到基片上,加大一点功率试试,沉积时间也长一点

顺便检查下气体才纯度,另外不知道你们的设备是否旋转加罩,还有靶的种类都会对镀膜产生影响

我的靶材是氟化镁,溅射压强我调到0.54pa,溅射时间达50分钟。但射频电源已经用了7、8年了。匹配器显示的pf达600w,而射频功率源电压表显示1350v,电流130ma。两者乘积不到200w.不知道你说的气体纯度,是指氩气吗?

哪儿电源?有没有自偏压的指示?

可能是没有自偏压,或者反射功率太大。老电源匹配不好

如果电源有自偏压的指示,要看自偏的大小,一般如果自偏压太小溅射效率很低,射频本来溅射速率就低,如果自偏压低了溅射速率就更低了,会出现溅射不出来的现象。
自偏压低的原因是等离子体的阻抗太小,可以检查气体是否为氩气或其他惰性气体, 此外,矫正真空计,有时候真空计显示偏低,其实气体已经很多了。


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