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作者
最后发表
微米和纳米
请问金属基底旋涂光刻胶进行前烘的参数如何设置
目前是发现采用标准的
前烘
工艺来做（使用的
光刻胶
为az-4620，
旋涂
的厚度为10um左右。...所以
请问
大神们有没有做过8~10微米的
光刻胶
在
金属基底
上的烘胶工艺，小弟好找个参考值，烘箱和热板都...
leine
2020-01-02 11:04
